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    多晶硅、單晶硅微波、紅外復合專用烘干生產線

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    多晶硅、單晶硅微波、紅外復合專用烘干生產線
    時間:2021年3月27日 閱讀: 8,952 次

    多晶硅、單晶硅微波、紅外復合專用烘干生產線

    一、 工藝設備要求

    1.1物料特性:

    干燥物料名稱:多晶硅料。

    物料形狀:1mm-8mm、8mm-50mm、50mm-150mm ?三種規格,不規則形狀。

    含水率:硅料表面水分,小顆粒的為經過甩干后的水分。

    1.2干燥原理及控制點

    采用干燥原理:連續式,微波溫控干燥。

    微波精度控制:≤1%。

    溫度控制點:多點控溫,烘干過程中硅料溫度≤120℃。

    傳動系統:PTFE特氟龍高溫布,可變頻調速。

    輸送帶回程清理:帶自動電動毛刷清掃裝置。

    微波泄漏量:≤2mW/cm2,測量方法按GB 5959.6-2008中規定執行。

    1.3 ?生產能力

    設計生產能力250KG/h,24h連續流水式作業,烘干后需加冷卻降溫到40℃。

    設備配置與功能

    設計總功率120kw,微波功率90kw,紅外功率90kw,循環冷卻水流量約14m3/h,排風量3600m3/h。

    設備長16.75m,寬1.4m,高2.2m。

    操作柜與微波電源柜同側布置,操作柜靠近上料端,從操作臺處面對設備,設備為右進左出。

    設備主體:

    設備主體由布料系統、微波抑制器(首尾各一個)、微波腔體、微波發生器、傳送裝置、排濕冷卻系統、下料冷卻系統組成。

    設備機架整體采用304不銹鋼材料制作,微波腔體采用316L不銹鋼。

    微波腔體長9m、寬1.5m、高0.48m。

    ?布料系統:

    采用料倉加直線篩給料裝置結合,料倉容積0.15立方。料倉內壁等與硅料接觸的部分,使用高純PU材質內襯,出口處PU內襯需突出殼體30mm以上,防止物料污染。

    設備廠家提供合理的上料方式,上料高度與地面距離不超過1100mm,料斗高度根據系統合理設計,布料系統采用下圖所示方式:

     

     

     

     

    內蒙古多晶硅生產現場

     

     


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